DI直接成像曝光機
1、一體化的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計:
DI 的光學(xué)系統(tǒng)無需掃描整個曝光面,從而降低了光學(xué)元件發(fā)熱產(chǎn)生的影響。
實時數(shù)據(jù)處理:系統(tǒng)實時同步處理數(shù)據(jù),可以動態(tài)處理板面漲縮和旋轉(zhuǎn)的變化,可選在板面和排版內(nèi)打印序號標(biāo)記。
高靈活性:對位影像系統(tǒng)可使用單一設(shè)定對同一批板子和根據(jù)每一張板子的標(biāo)靶進行單獨漲縮曝光。
2、可升級:
可根據(jù)客戶的需求進行光學(xué)模組數(shù)量的升級,以滿足客戶提升產(chǎn)能的要求。
迪盛智能擁有在激光直接成像領(lǐng)域已經(jīng)沉淀了多年的技術(shù)團隊,從成立之初我們就決心走穩(wěn)重持久的發(fā)展路線,不僅要做指標(biāo)達標(biāo)的設(shè)備,還要做的設(shè)備,因此我們的團隊從相對比較簡單的激光曬網(wǎng)機開始研發(fā)、制造、改善,經(jīng)過幾年的積累,我們的軟件、硬件均取得非凡的成就,數(shù)據(jù)處理、數(shù)據(jù)傳輸、分圖、電子控制、控制板卡、激光器、光學(xué)鏡頭等均實現(xiàn)自制或自行設(shè)計。
LDI機
LDI曝光速度的瓶頸因素包括:數(shù)據(jù)的儲存與傳送、鐳射能量、切換速度、多邊型的制作速度、光阻的感光度、鐳射頭移動速度、電路板傳送作業(yè)模式等。
以基本的影響因素而言,有三個獨立的因子會影響曝光速率:
1、能量密度 ? 2、數(shù)據(jù)調(diào)變的速度 ? 3、機械機構(gòu)速度
光阻必須要有一定量的能量送到表面才能產(chǎn)生適當(dāng)?shù)钠毓猓?D蓋板玻璃加工,而高敏度的光阻需要的能量相對較低。因為總能量等于功率乘上時間,高敏度的感光膜在同樣的功率下所需的曝光時間就比較短。而曝光系統(tǒng)的功能輸出,主要來自于系統(tǒng)的光源設(shè)計,所以這是能量與時間的關(guān)系與解析度無關(guān)。
溫馨提示:以上是關(guān)于迪盛微電子(多圖)-3D蓋板玻璃加工的詳細(xì)介紹,產(chǎn)品由迪盛(武漢)微電子有限公司為您提供,如果您對迪盛(武漢)微電子有限公司產(chǎn)品信息感興趣可以聯(lián)系供應(yīng)商或者讓供應(yīng)商主動聯(lián)系您 ,您也可以查看更多與光電子/激光儀器相關(guān)的產(chǎn)品!
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